- reactive ion etch
- 活性离子腐蚀
English-Chinese electron industry dictionary (英汉电子工程大词典). 2013.
reactive ion etch
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reactive-ion etch resistance — atsparumas reaktyviajam joniniam ėsdinimui statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etch resistance vok. Beständigkeit gegen reaktives Ionenätzen, f rus. стойкость к реактивному ионному травлению, f pranc. résistance au… … Radioelektronikos terminų žodynas
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Ion attachment mass spectrometry — Infobox Laboratory equipment name = Ion attachment mass spectrometry caption = acronym = IAMS other names = uses = related = Chemical ionizationIon attachment mass spectrometry (IAMS) is a form of mass spectrometry that uses a soft form of… … Wikipedia
Gravure Ionique Réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
Gravure ionique reactive — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Gravure ionique réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
Advanced Silicon Etch — (ASE) is a deep reactive ion etching (DRIE) technique to rapidly etch deep and high aspect ratio structures in silicon.ASE was pioneered by Surface Technology Systems Plc. (STS) in 1994 in the UK. STS has continued to develop this process with… … Wikipedia
Octafluorcyclobutan — Strukturformel Allgemeines Name Octafluorocyclobutan (INN) … Deutsch Wikipedia
